某光电器件打造制造业企业因晶圆的洗涤繁琐流程会产生含氨工业废水，水流量200吨/天。工业废清水中除氯离子外还所含氟化物和轻微天价属，清理难易度大。本市释放规定让氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废液化学成分及源头 晶圆的洗涤废水处理工艺（注意的来源）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废渣：含微量分析铜、镍等血本属，pH值起伏较大大 CMP抛光废气：含硅颗粒物及挥发酚 清理的工艺操作流程 选用"物理化学水解+膜分离法+折点氯化"乐队组合加工过程： 预解决 ：添加CaCl2除氟，掌控pH在7.5-8. 反渗透装置软件系统 ：洗去0.01μm之内粉末物 反参透精提 ：将高锰酸盐指数萃取至1000mg/L上面的 折点氯化 ：透彻调整氯加药量，将氧化还原电位导出为惰性气体 铝离子互相交换 ：担保巨资属达到标准 决定性目的 氯离子动态平衡＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属浓度少于测试限 水工业废水处理率达75% 废水行成量减低40%